SEMICON JAPAN 2025 に出展致します。
ご来場の際には、是非ダルトンブースへお越し下さい。

●開催概要

日時：2025年12月17日（水）～12月19日（金）10:00～17:00
場所：東京ビッグサイト　[アクセス方法]
来場事前登録専用URL：来場事前登録はこちらから
ダルトンブース：W2269（西2ホール）

蒸気2流体洗浄装置やFOUP関連装置を展示し、
その性能や仕様を専門スタッフがご説明致します。
出展製品の他に弊社取り扱い製品をグラフィック・動画にてご紹介致します。皆様のご来場をお待ちしております。

●主な出展製品

蒸気2流体洗浄装置

薬液ではなく水蒸気と水を超音速で噴射して異物を除去する洗浄装置です。
蒸気と水の2流体を超音速で噴射させ、無数の水滴が対象物に衝突することで、
水滴中にキャビテーション（真空の泡）を発生させ、
それが潰れるときに発生する衝撃波の力を利用して除去します。
異物除去、研磨後の洗浄、メタルリフトオフ、レジスト剥離などに使用されます。
本装置の洗浄技術を、出展社セミナーでもご説明します。 

 〇出展社セミナー
「次世代洗浄プロセス：蒸気2流体と高温高濃度オゾン水による薬液フリーレジスト除去」
薬品を使用せずに純水のみでレジスト剥離を行える洗浄技術
「蒸気2流体洗浄」「高温高濃度オゾン水洗浄」をご紹介します。
2025年12月18日(木)11:30～12:00@西ホール2F 商談室2

FOUP洗浄装置（グラフィック展示）

独自の洗浄処理で残渣やパーティクルの洗浄が可能です。
更に、瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能であり、
高い洗浄能力を有しています。
また洗浄液は純水のみで使用量も少ないため、環境負荷低減に繋がります。
FOUP BOXと蓋を別エリアにて洗浄・真空プロセスにかけることも可能です。
今回の出展では真空洗浄チャンバーのみの展示となります。

SEMICON JAPAN 2025 公式サイト